超临界萃取/反应/制粒

Helix超临界萃取/反应系统，REASI HELIX超临界萃取/反应/制粒可广泛适用于（1）**、食品和类**营养品等目标产物的提取（2）超临界干燥（3）超临界清洗（4）超临界印染（5）超临界反应等。具有三种微粒制备方式：GAS，PCA ，RESS。

HELIX REASI HELIX多功能超临界仪技术参数：

• 超临界萃取/反应/制粒可以用于超临界萃取，超临界反应，超临界微粒制备

• *高操作温度可达 250℃

• *高操作压力可达 10,000 psi (680bar)，可选1000Bar。

• *高流量400ml/min（液态）

• 可选配分离模块

• 模块化的设计，可方便的进行系统调整

• 萃取釜承压为 30,000 psi，萃取体积：5ml至4000ml可选，可根据用户需求进行定制。

• 可添加夹带剂 (夹带剂泵的压力为10,000 psi）

• 触摸屏电脑控制，人性化的操作界面

• 结晶微粒无溶剂残留

• 具有三种微粒制备方式：GAS，PCA ，RESS。

• 干燥气凝胶

• 可选配搅拌功能

• 可选配液体逆流萃取

• 可选配PSE（压力溶剂萃取）包

• 三重过压**保护装置及经济压力释放装置

• ASI是超临界技术，通过了ISO9001的质量认证，是超临界领域通过美国环保署绿色认证的公司。

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